|
Vyučující
|
-
Bakalova Totka, Ing. Ph.D.
-
Daďourek Karel, doc. Ing. CSc.
-
Svobodová Lucie, Ing. Ph.D.
-
Krafka Michal, Ing.
|
|
Obsah předmětu
|
P Ř E D N Á Š K Y 1. Kinetické teorie plynů 2. Plazma 3. Princip plazmových procesů 4. Elektrické výboje 1 - stejnosměrné výboje 5. Elektrické výboje 2 - střídavé a mikrovlnné výboje 6. Typy plazmových procesů 7. Plazmové reaktory 1 8. Plazmové reaktory 2 9. Procesy probíhající za atmosférického tlaku 10. Plazmové leptání 11. Plazmová modifikace povrchů 12. Plazmové naprašování. 13. Plazma CVD a plazmová polymerizace. C V I Č E N Í 1. Základy vakuové techniky, měření natékání, mezního tlaku 2. Plazmová modifikace plastických hmot, zvýšení adhese - nízkotlaký výboj 3. Aplikace vysokotlakého výboje 4. Příprava tenké vrstvy metodou PE CVD a proměření jejích vlastností 5. Z á p o č t y .
|
|
Studijní aktivity a metody výuky
|
Monologický výklad (přednáška, prezentace, vysvětlování)
- Účast na výuce
- 56 hodin za semestr
|
|
Výstupy z učení
|
Podat přehled o principech, metodách a aplikacích plazmových technologií povrchových úprav.
Zvládnutí základů plazmových technologií
|
|
Předpoklady
|
Absolvování teoretických předmětů (fyzika, materiály).
|
|
Hodnoticí metody a kritéria
|
Kombinovaná zkouška
1. Absolvování praktických cvičení 2. úspěšné složení zkoušky
|
|
Doporučená literatura
|
-
.A.LIEBERMAN, A.J.LICHTENBERG. Principles of Plasma Discharges and Materials Processing. John Wiley & Sons 1994.
-
A.SHERMAN. Chemical Vapor Deposition for Microelectronics. Noyes Publications 1987.
-
B.N. CHAPMAN. Glow Discharge Processes. Johl Wiley & Sons 1980.
-
F.F.CHEN. Úvod do fyziky plazmatu. Academia Praha.
-
J. REECE ROTH. Industrial Plasma Engineering: Applications. Institute of Physics Pub 2001, 2001.
-
J.L.VOSSEN, W.Kern:. Thin Film Processes. Academic Press 1978. Academic Press, 1978.
-
R. D'AGOSTINO. Plasma Deposition,Treatment and Etchin of Polymers. Academic Press 1990.
-
VLČEK:. Úvod do fyziky plazmatu. Skripta. Plzeň, ZČU - FAV.
|